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  • BTF-1200C-R單溫區回轉爐
    BTF-1200C-R單溫區回轉爐

    更新時(shí)間：2021-01-11

    型號：BTF-1200C-R

    瀏覽量：1188

    一、設備特點(diǎn): 　　爐管可旋轉360度 　　管內壁設有石英擋片幫助粉料翻轉，有助材料燒結更均勻 　廣泛應用于電池正負極材料，無(wú)強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料。 　　可在真空下或氣氛保護下進(jìn)行燒制
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  • MVP-R火焰吹制真空回轉設備 MVP-R
    MVP-R火焰吹制真空回轉設備 MVP-R

    更新時(shí)間：2020-07-17

    型號：MVP-R

    瀏覽量：1028

    火焰吹制真空回轉設備 MVP-R 1.自動(dòng)調節火焰槍頭三維位置 2.低壓條件下實(shí)現吹塑成型實(shí)驗 3.玻璃圓片可在環(huán)形壓環(huán)實(shí)現邊界固定 4.內置磁流體旋轉 5.真空條件下實(shí)現玻璃片的原位旋轉
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  • BTF-1100C-IIIA大口徑管式爐
    BTF-1100C-IIIA大口徑管式爐

    更新時(shí)間：2021-11-11

    型號：BTF-1100C-IIIA

    瀏覽量：1113

    大口徑管式爐BTF-1100C-IIIA 1.管徑大 2.恒溫區長(cháng) 3.性?xún)r(jià)比* 4.數控顯示屏 5.操作更簡(jiǎn)單，更方便。
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  • RTP-1200C-200-SL單工位快速退火爐
    RTP-1200C-200-SL單工位快速退火爐

    更新時(shí)間：2020-03-05

    型號：RTP-1200C-200-SL

    瀏覽量：1263

    該款設備是由單端封口小型紅外滑軌爐、 電機調速裝置、高真空機組、進(jìn)出氣口及操作控制界面組成，內控熱電偶用于控制RTP滑軌爐內的溫度，伺服電機用于控制絲桿的轉動(dòng)速度達到精確控制爐管（樣品）移除爐膛的速度，從而用于調節爐管（樣品）的降溫速度，與之相反可以得到較快的升溫速率；出氣口通過(guò)連接手動(dòng)擋板閥、波紋管用于對石英艙體內的真空獲取，進(jìn)氣口除用于通入保護氣體或反應氣體外，還可以用于移出爐膛后通入氣體帶走
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  • BTF-350C-UM液相蒸發(fā)儀
    BTF-350C-UM液相蒸發(fā)儀

    更新時(shí)間：2019-12-17

    型號：BTF-350C-UM

    瀏覽量：1017

    設備特點(diǎn) 液相蒸發(fā)儀是一款氣液混合加熱設備，集控制系統與氣液混合系統為一體。采用耐腐蝕不銹鋼制作儲液罐，并在罐頂部加有透明視窗，可以實(shí)時(shí)觀(guān)測罐內液位；采用加熱套環(huán)輔以柔性電加熱帶為加熱元件，加以精密儀表控溫，zui高加溫至250°C **溫度≤200°C；另外在殼體外部加裝有溫度計用以實(shí)時(shí)監測環(huán)境溫度。
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  • BTF-1200C-DSL真空氣氛滑軌爐
    BTF-1200C-DSL真空氣氛滑軌爐

    更新時(shí)間：2024-06-25

    型號：BTF-1200C-DSL

    瀏覽量：1119

    設備特點(diǎn) 真空氣氛滑軌是一款精巧型真空氣氛滑軌爐，配有石英管和真空水冷法蘭，它是專(zhuān)為半導體或太陽(yáng)能電池基片的退火而設計，采用電阻絲為加熱元件。溫度控制位30 段可編程溫度控制器，控溫精度為±1°C。內部配有石英材質(zhì)樣品架，可以自由滑動(dòng)實(shí)現快速升降溫功能。根據工藝需要，爐管內部可引入電極，適合更多數據采集需要。 承載樣品的托架可直接劃出爐腔，使進(jìn)出樣品更方便簡(jiǎn)易，同時(shí)能實(shí)驗高溫條
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  • BTF-1100C-S-D-25小單溫區管式爐
    BTF-1100C-S-D-25小單溫區管式爐

    更新時(shí)間：2024-06-25

    型號：BTF-1100C-S-D-25

    瀏覽量：1115

    小單溫區管式爐主要特點(diǎn)：設備極小、能耗低、所占空間小，適合提供小樣燒結或配套分析儀器使用，也同樣適合于同位稱(chēng)量設備。
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  • BTF-1700C-SL滑動(dòng)取樣小型高溫管式爐
    BTF-1700C-SL滑動(dòng)取樣小型高溫管式爐

    更新時(shí)間：2024-06-25

    型號：BTF-1700C-SL

    瀏覽量：1145

    此款滑軌式高溫管式爐廣泛用于:真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實(shí)驗環(huán)境. 該設備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠，溫場(chǎng)均勻，結構合理，尺寸小巧，節能。周到的界面操作提示，使得設備的操作異常簡(jiǎn)單、方便
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